Japans consortium werkt aan EUV-laser
Tien Japanse bedrijven hebben een consortium opgericht voor het ontwikkelen van een EUV-laser. Zo'n laser voor het produceren van extreem ultraviolet licht is van belang voor de chipindustrie. Ze maakt het mogelijk om kleinere details op het silicium te etsen, waardoor de chip compacter wordt en sneller kan schakelen.
Shutterstock
Shutterstock
Het consortium wil een laser ontwikkelen die details van 50 nanometer en minder kan schrijven. Daarvoor moet men een EUV-laser ontwikkelen die gedurende langere tijd een output haalt van 20 Watt. Die opdracht moet in 2005 afgerond zijn. Het consortium bestaat uit Canon, Nikon, Fujitsu, Hitachi, Mitsubishi, Nec, Toshiba, Ushio, Gigaphoton en Komatsu. De participanten rekenen op een onderzoekscontact van het Japanse ministerie van economie, handel en industrie. De bedrijven verwachten een bijdrage van 8,7 miljoen dollar in de onderzoeks- en ontwikkelingskosten. (jwy)