IBM promoot gebruik SiGe halfgeleiders
IBM schept speciale faciliteiten voor bedrijven en universiteiten die schakelingen willen maken met silicium/germanium (SiGe). Dit halfgeleidermateriaal is ontwikkeld in de laboratoria van IBM en het heeft aantrekkelijke eigenschappen, zoals een hoge snelheid gepaard aan een lage energieconsumptie. Ook introduceert het materiaal vrij weinig ruis in de signalen die erdoor worden geleid.
Shutterstock
Shutterstock
Het produceren van een SiGe-schakeling is echter duur, vooral wanneer het gaat om kleine series. IBM doet nu een aanbod, het Multi Project Wafer Initiative, waarbij diverse schakelingen op één wafer worden geëtst. Op die manier kan men kleine series IC's maken zonder dat het buitensporig duur wordt. Het plaatsen van de chipontwerpen op de maskers die nodig zijn voor het belichten van de wafers wordt uitgevoerd door de firma Mosis. Als dit bedrijf klaar is, worden de maskers overgebracht naar een van de chipfabrieken van IBM, waar de verdere schakelingen vervaardigd worden. (rak)