IBM voegt zich bij UV-chipconsortium

De technologie in kwestie maakt gebruik van ultraviolet licht om langs lithografische weg patronen op dragers van silicium over te brengen. De op dit moment gebruikte golflengten zijn geschikt voor chips waarvan de bedrading niet kleiner is dan 0,1 micron. Voor het maken van nog kleinere onderdelen zijn nieuwe productietechnieken nodig. Als die niet worden gevonden, zullen de chipfabrikanten over een jaar of vijf tegen een fysieke grens oplopen. De huidige processoren van Intel bijvoorbeeld berusten op 0,18 micron-technologie. Het bedrijf bereidt zich voor op de overstap later dit jaar naar 0,13 micron. Het in 1997 opgerichte consortium heeft al een aantal technische horden genomen. Intel maakte vorige week bekend voor het eerst in het laboratorium een werkend ‘masker’ te hebben gemaakt voor lithografie op basis van extreem ultraviolet licht. De volgende stap is het geschikt maken van de technologie voor commerciële toepassing. Productiesystemen moeten omstreeks 2005 marktrijp zijn. Tegelijk blijft IBM in samenwerking met Nikon uit Japan onderzoek doen naar een alternatieve productietechniek. Deze staat bekend als electronen-projectie lithografie (EPL). Het is nog niet duidelijk welke van de twee technieken uiteindelijk als goedkoopste en bruikbaarste uit de bus zal komen. (gke)