Universiteit Berkeley bedenkt opvolger optische lithografie

In Berkeley wordt geëxperimenteerd met een zogeheten plasmonische lens, die berust op het principe dat licht gebroken kan worden door een wolk oscillerende elektronen. Deze elektronen vormen als het ware een lens, die licht zeer nauwkeurig kan breken. Dit leidt tot structuren die een heel stuk kleiner zijn dan de golflengte van het licht dat wordt gebruikt om de structuren in de etslaag aan te brengen.Inmiddels is het team er in geslaagd om structuren van enkele tientallen nanometers in diameter op een fotogevoelige laag aan te brengen, en dat met een snelheid van 12 meter per seconde. Hiervoor is de lens gemonteerd op een contructie die nog het meest wegheeft van een oude platenspeler. In plaats van een LP wordt een wafer silicium gebruikt.Uiteindelijk moet deze techniek structuren met een doorsnede van 5 tot 10 nanometer opleveren. "Daarmee komen we beduidend onder de huidige ondergrens van spoorbreedtes op IC's, die op 35 nanometer ligt. Bovendien is onze techniek goedkoper", zegt Liang Pan, een van de leden van het onderzoeksteam.