Israël lokt Intel met extra subsidies

Nieuwe fabriek voor chips van 22 nanometer
In Kiryat Gat staat al een productiefaciliteit (‘Fab 28’) van Intel. Deze zal worden uitgebreid met een tweede gebouw voor de fabricage van wafers met een diameter van 300 millimeter. Daar wil Intel zijn meest geavanceerde productietechnologie van dit moment, gebaseerd op verbindingen met een breedte van 22 nanometer, toepassen. In een volgende fase zou de spoorbreedte verder omlaag kunnen naar 14 nanometer.

Israëlische regering stelt wel voorwaarden
Volgens EE Times verbindt Israël wel bepaalde voorwaarden aan de extra subsidie. Naast de locatie in Kiryat Gat, gelegen in het zuiden, zou Intel ook een assemblagefabriek in het noorden van het land moeten vestigen. De regering stelt ook eisen aan het creëren van banen. In Kiryat Gat moet de uitbreiding 1500 nieuwe banen opleveren en op de andere locatie in het noorden 600 tot 1000 arbeidsplaatsen. Deze banen moeten minimaal 10 jaar in stand blijven.

Als de plannen doorgaan, krijgt Intel naast de vestigingspremies ook belastingvoordelen in het kader van een nieuwe wet die kapitaalsinvesteringen moet stimuleren. Intel zou de eerste betalingen vanaf 2014 in drie termijnen tegemoet kunnen zien.

Amerikaanse overheid ziet bedrijven liever in de VS investeren
De investering in Israël zou Intel in conflict kunnen brengen met de Amerikaanse regering, die graag ziet dat technologiebedrijven in de Verenigde Staten zelf investeren. Intel-topman Paul Otellini heeft in Washington recentelijk nog gepleit voor belastingvoordelen op fabrieksuitbreidingen, omdat deze de werkgelegenheid bevorderen en de concurrentiepositie van de VS verbeteren.